EFEMプラットフォーム

最適な結果を得るための完全なソリューション

当社のEFEMプラットフォームは、標準的なEFEMとして機能することもできますし、お客様のアプリケーションの 清浄度、ハンドリング技術、スループット、フォームファクター要件に合わせて カスタマイズすることもできます。設計から製造まで、様々な複雑さと精度のユニットを提供し、必要なハードウェア、ソフトウェア、ビジョン、光学設計、サブミクロン計測、環境制御、マテリアルハンドリングを統合して、シングルユニットから4ワイドまでお客様のニーズに合わせることができます。

市場投入の迅速化

ひとつ屋根の下に必要な機能をすべて揃えることで、完璧な製品をお届けすることが大幅に簡素化されます。当社のオプションには以下が含まれます： 

• 様々なエンドエフェクター技術：ベルヌーイグリップ、エッジグリップ、バキュームグリップ
• ESD充電制御オプション
• 真空および低汚染の統合能力
• プロセスの簡素化および/またはフットプリント/フォームファクターの最適化のための構成可能なレイアウト
• 10µm精度の高精度アライナーシステム
• 統合防振の経験
  
  

その他の特徴視覚、光学、A.I.の専門知識

さらに、バーコードリーダー、光学式文字認識（OCR）、欠陥分析および特性評価、汚染検出、平坦度測定などの 光学および視覚システム設計能力も提供しています。必要に応じて、追加のセンサー技術を統合することも可能です。社内の予測信頼性分析ソフトウェアにより、システムの継続的な監視と対応が可能です。

安全性、信頼性、SEMIコンプライアンス

当社のEFEMは、高いMTBFと確かな性能を備えた信頼性の高いプラットフォームです。S2、S8、E84、E87、E58を含むハードウェアおよびソフトウェアのCEおよびSEMI規格に適合しています。

カスタマイズ・オプションと機能：