EFEM 平台
  • 亮点

我们的 EFEM 平台可为晶圆处理提供超洁净、可靠的性能。


一至四个以上FOUP 或 SMIF接口。


高精度晶圆对准功能和晶圆翻转 选项。


标准设计有3 轴和 4 轴机器人


用于 污染控制的微型环境以及空气分子污染过滤器选项


针对成本和污染程度进行了优化,以 满足 ISO 级洁净室的需求。


300 毫米、200 毫米、150 毫米和 100 毫米圆形晶片(可定制其他材料、形状和尺寸)。


适用于不同的晶片技术,包括薄膜框架载体策略、太鼓晶片、薄/厚晶片、粘合晶片、非平面晶片或具有 3D 结构的晶片以及玻璃晶片。

实现最佳效果的完整解决方案

我们的EFEM 平台可作为标准 EFEM 使用,也可根据您的应用对 洁净度、处理技术、吞吐量和外形尺寸的要求进行定制从设计到制造,我们可提供不同复杂程度和精度的设备,并可集成所需的硬件、软件、视觉、光学设计、亚微米计量、环境控制和材料处理,以满足您从单台到 4 台设备的需求。

更快进入市场

在一个屋檐下就能实现所需的所有功能,从而大大简化了交付完美产品的过程。我们的选项包括: 

  • 一系列末端效应器技术:伯努利、边缘夹具或真空夹具
  • ESD 充电控制选项
  • 真空和低污染集成能力
  • 可配置布局,以简化流程和/或优化占地面积/外形尺寸系数
  • 精度高达 10 µm 的高精度校准系统
  • 丰富的综合隔振经验

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附加功能:视觉、光学和人工智能专长

此外,我们还提供光学和视觉系统设计功能,包括条形码阅读器、光学字符识别 (OCR)、缺陷分析和特性描述、污染检测和平整度测量 。可根据需要提供附加传感器技术的集成。我们的内部预测可靠性分析软件可实现持续的系统监控和响应。

安全性、可靠性和 SEMI 合规性

我们的 EFEM 是一个可靠的平台,具有较高的平均无故障时间(MTBF)和稳定的性能。它符合 CE 和 SEMI 硬件和软件标准,包括 S2、S8、E84、E87 和 E58。

定制选项和功能: 

 

EFEM 平台

环境

  • 迷你型环境,可达到 ISO 1 级运行标准
  • 温度控制
  • 减少静电荷
晶圆处理
  • 晶圆尺寸:300、200、150、100
  • 适应各种厚度和翘曲晶片
  • 不同的基底材料(玻璃、硅、碳化硅、锗)
  • 末端效应器或各种抓取技术(边缘、真空、伯努利)
  • 晶圆翻转
  • 特殊晶片或其他基板(视网膜、膜框、显示屏、JEDEC 托盘)
  • 行业标准 SMIF 和 FOUP 加载端口
  • 可容纳特殊模块,如高精度对齐器
机器人
  • 单臂和双臂
  • 3 轴和 4 轴

视觉与光学

  • 条码阅读器
  • 信托认定
  • OCR
  • 缺陷分析和特征描述
  • 平面度分析
软件要求和功能
  • 符合 SEMI 标准的 300 毫米和 200 毫米资料库
  • 标准 EFEM 中与主机控制器的接口协议
  • SMEMA 和 SECS/GEM 接口
  • 数据管理和跟踪功能
  • 符合 SEMI E95 人机界面 (HMI) 标准
  • 晶圆制图